薄膜形成・加工装置

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マグネトロンスパッタソース

マグネトロンスパッタソース /株式会社ケーサイエンス

当社のマグネトロンスパッタソースは、マグネトロン放電を利用することで、スパッタ速度の高速化をしています。また、DC・RF電源が使用できます。DC電源では、高融点金属・磁性体などの原料がスパッタリングできます。13.56MHzのRF電源を使用することにより高融点金属・磁性体のほか、半導体・石英・ガラス・アルミナなどの絶縁物がスパッタリングできます。

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