半導体B(探索的材料・物性・デバイス)

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フロントローディング式 真空プロセス高速加熱炉

フロントローディング式 真空プロセス高速加熱炉 /ユニテンプジャパン(株)

装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度1000℃を実現します。そのためSiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応します。

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Evident Thermoelectrics 熱電材料

Evident Thermoelectrics 熱電材料 /オーシャンフォトニクス(株)

ノテクノロジー技術を用い、エヴィデント社は熱電材料をナノ構造化する製法を開発しました。薄膜やナノワイヤー構造の熱電材料に比較し、エヴィデント社のナノ構造バルク材料は強固で、製造時の歩留まり率も大幅に向上しているため、発電ワット当たりの費用を抑えることができる。

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国際会議・分科会・研究会のシンポジウム運営サポート

国際会議・分科会・研究会のシンポジウム運営サポート /日刊工業コミュニケーションズ(日刊工業新聞社グループ)

日刊工業コミュニケーションズ(日刊工業新聞社グループ)では、分科会・研究会等のシンポジウム、国際会議等の運営業務をサポートいたします。展示会出展者の募集や、ポスターセッション、看板設営まで幅広く対応いたします。詳しくはお問い合わせください。

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完全無冷媒型 物理特性装置 PPMS EverCool II

完全無冷媒型 物理特性装置 PPMS EverCool II /日本カンタム・デザイン(株)

液体ヘリウム・液体窒素などの冷媒が一切不要で、従来のPPMSと同じ測定が可能です。また、専用設計された超低振動デュワーの為、他装置への影響も最小限での測定が可能です。冷却時間はたったの30時間以内で、水冷式か空冷式(インバータ仕様)の選択も可能です。

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グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発- 最終成果報告会

グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発- 最終成果報告会 /(独)産業技術総合研究所

最先端研究開発支援プログラム採択課題 グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発 最終成果報告会
(1)低電圧動作CMOS
(新材料・新構造/新動作原理MOSFET)
(2)ナノカーボン材料の開発と応用
(CNT/グラフェンの合成と配線・排熱・デバイス応用)
(3)バックエンドデバイス
(超格子相変化新材料の開発)

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和文機関誌「応用物理」、最先端を特集します

和文機関誌「応用物理」、最先端を特集します /公益社団法人 応用物理学会

応用物理学会に所属する約23,000人の全会員に向けて毎月10日発行しています。広告募集中です!!

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超音波顕微鏡

超音波顕微鏡 /(株)日本レーザー

超音波顕微鏡(超音波映像装置)“Vシリーズ”は、頑丈・安定・ハイエンドという従来機のコンセプトは維持し、さらに高いレベルを目指して開発され、半導体ウェハ、LEDに特化したインラインモデルもラインアップしています。 従来機の約1.5倍の高速スキャン機構を備え、高SNでの撮像を実現した新デザインプローブおよび新型アンプを採用し、ソフトウェアも使い易く、オプションのマルチプローブシステムも選択可能です。

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Comprehensive Semiconductor Science and Technology 半導体科学全書、全5巻

Comprehensive Semiconductor Science and Technology 半導体科学全書、全5巻 /エルゼビア・ジャパン(株)

半導体研究の基礎から技術開発の発展が著しいナノテクや量子エレクトロニクス等の最先端分野を網羅した包括的なレファレンス。大きく3部構成となり、1部では半導体の基礎となる物理理論の紹介、2部ではバルク単結晶や薄膜など半導体技術について、3部ではデバイスへの応用を中心に言及。大学院生向けの教育に適したチュートリアル形式のコンテンツも含み、教科書としても活用できる。

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シリコン キャリア

シリコン キャリア /キャリア インテグレーション(株)

●小口径ウエハ向け搬送用シリコンウエア(SEMI規格のシリコンウエハ等にくぼみと押さえ機構を加工し、Φ1~6"や□20mm等の化合物半導体ウエハ等を固定の上、搬送・プロセスを行う精密シリコン加工部品)
●各種の小口径ウエハを半導体プロセス装置の改造無しでご使用頂けます。
●半導体研究所/各種ラボ用途に最適。
●短納期:1週間(研削図合意後)
●単価:30万円(8インチ)?、45万円(12インチ)

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ダイレクト・ダイオードシステム

ダイレクト・ダイオードシステム /コヒレント・ジャパン(株)

HighLight™ FAP 60は、OLEDディスプレイのFRIT溶接やその他の産業用熱加工応用で求められる、優れた加工の均一性と高いスループットを実現します。また、高い出力安定性(出力変動率 ±1%)や、ジッターフリーの高速立ち上り時間(<50 μs)などを特長とした優れた出力特性を持つ。さらに、4枚のレンズイメージャー(オプション)を使用することで、倍率の可変性と、トップハットのビームプロファイルが得られます。

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